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Triméthoxysilane CAS : 2487-90-3

Le triméthoxysilane est un agent de couplage silane de formule chimique C₃H₁₀O₃Si, contenant trois groupes méthoxy liés à un atome de silicium. C'est un liquide incolore qui s'hydrolyse en présence d'humidité, formant des groupes silanol capables de réagir avec divers substrats pour améliorer l'adhérence et la compatibilité dans les applications en science des matériaux.


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Application et effet :

Le triméthoxysilane est un agent de modification de surface et de réticulation polyvalent utilisé dans la production d'adhésifs, de mastics, de revêtements et de matériaux composites. Appliqué sur des surfaces, il forme des liaisons fortes avec les substrats grâce à ses groupes silanol, améliorant ainsi l'adhérence, la résistance chimique et la durabilité des revêtements et des interfaces de collage. Cette propriété est essentielle pour optimiser les performances et la longévité des matériaux dans les secteurs de la construction, de l'automobile, de l'aérospatiale et de l'industrie. En nanotechnologie, le triméthoxysilane est utilisé pour fonctionnaliser les nanoparticules et les nanocharges afin d'améliorer leur dispersion et leurs interactions interfaciales dans les matrices polymères. En modifiant les propriétés de surface des nanoparticules, il favorise une dispersion uniforme et un renforcement au sein des composites, ce qui améliore les propriétés mécaniques, la stabilité thermique et la conductivité électrique des matériaux avancés. De plus, le triméthoxysilane joue un rôle clé dans la synthèse de matériaux hybrides organiques-inorganiques, tels que les nanocomposites à base de silice et les revêtements sol-gel. Sa capacité à former des liaisons covalentes avec des composants organiques et inorganiques permet la création de matériaux aux propriétés sur mesure, notamment une dureté, une flexibilité et une résistance aux facteurs environnementaux accrues. Dans l'industrie électronique, le triméthoxysilane est utilisé comme précurseur pour le dépôt de couches minces de dioxyde de silicium (SiO₂) par dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Ces films de SiO₂ servent de couches diélectriques dans les dispositifs semi-conducteurs, de couches isolantes en microélectronique et de revêtements protecteurs sur les composants optiques, contribuant ainsi à la miniaturisation, à la fiabilité et aux performances des dispositifs électroniques. De plus, le triméthoxysilane est utilisé pour la modification de surface du verre, de la céramique, des métaux et des textiles afin de leur conférer des propriétés hydrophobes, oléophobes ou anticorrosives. En formant des monocouches auto-assemblées sur les surfaces, il améliore l'hydrophobie, la résistance aux taches et les caractéristiques d'énergie de surface, ce qui le rend adapté aux applications dans les revêtements architecturaux, les traitements textiles et la protection contre la corrosion en milieu marin. Globalement, le triméthoxysilane démontre sa polyvalence et son utilité en tant que composé multifonctionnel avec diverses applications dans l'ingénierie de surface, la fabrication de nanocomposites, la fabrication électronique, la synthèse de matériaux et la protection de surface, contribuant ainsi aux progrès de diverses industries et technologies.

Échantillon de produit :

L-Arginine1
L-Arginine2

Emballage du produit :

L-Arginine3

Informations Complémentaires:

Composition C3H10O3Si
Essai 99%
Apparence poudre blanche
N° CAS 2487-90-3
Emballage Petit et gros
durée de conservation 2 ans
Stockage Conserver dans un endroit frais et sec.
Certification ISO.

 


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